wet-chemical etching中文是什么意思

• 湿化学腐蚀

• "wet"中文翻译    adj. (opp. dry ) 1.湿，潮湿的，有湿气 ...
• "chemical"中文翻译    adj. 化学的，化学作用的；应用化学的，用化学方法获得 ...
• "etching"中文翻译    n. 1.蚀刻法；蚀刻(铜)版画；蚀镂术。 2.蚀刻画， ...
• "wet chemical etching" 中文翻译 :    湿法蚀刻
• "wet etching" 中文翻译 :    湿腐蚀
• "chemical etching" 中文翻译 :    化学腐蚀法; 化学腐蚀加工; 化学浸蚀; 化学刻蚀; 化学侵蚀法; 化学蚀刻
• "evacuated wet etching system" 中文翻译 :    减压抽气浸渍式蚀刻系统
• "immersion wet etching system" 中文翻译 :    浸渍式蚀刻系统
• "wet etching system" 中文翻译 :    湿式蚀刻系统
• "wet chemical" 中文翻译 :    湿化学
• "wet agent =wet chemical" 中文翻译 :    碳酸钾水溶液
• "etching process chemical" 中文翻译 :    蚀刻制程化学品
• "o chemical etching for electronics" 中文翻译 :    电子蚀刻
• "wet chemical analysis" 中文翻译 :    湿法化学分析
• "wet chemical etch" 中文翻译 :    湿法化学腐蚀
• "wet chemical extinguishing system" 中文翻译 :    湿式化学灭火装置
• "wet chemical method" 中文翻译 :    化学湿选法; 化学湿穴
• "wet chemical processing" 中文翻译 :    湿法化学处理
• "wet chemical separation method" 中文翻译 :    湿式化学分离法
• "wet chemical station" 中文翻译 :    湿法化学处理台
• "wet-chemical analysis" 中文翻译 :    湿化学分析
• "wet-chemical technique" 中文翻译 :    湿化学技术
• "etching" 中文翻译 :    n. 1.蚀刻法；蚀刻(铜)版画；蚀镂术。 2.蚀刻画，蚀刻版，蚀刻版印刷品。 close [rough] etching (晶体的)精[粗]蚀。 electrochemical etching 电化浸蚀，电抛光。
• "wet" 中文翻译 :    adj. (opp. dry ) 1.湿，潮湿的，有湿气的。 2.雨的，下雨的，多雨的。 3.〔美俚〕允许卖[制]酒的，不禁酒的；反对禁酒的。 4.湿性的；【化学】湿式的。 5.〔俚语〕喝醉了的；(人、物等)讨厌的；愚笨的；动不动流泪的；伤感的。 W- paint. 〔告白〕油漆未干(＝ 〔英国〕 Fresh paint)。 a wet day 下雨天。 a wet bargain 喝酒时做成的交易。 He is all wet. 他真是发疯了；他完全搞错了。 wet behind the ears 没有经验的；不成熟的。 n. 1.湿气，水分；液体，水。 2.雨，雨天。 3.〔俚语〕酒，饮酒；〔美国〕反对禁酒的人。 vt. (-tt-) 1.把…弄湿。 2.喝酒庆祝[进行]。 wet the bed 尿床，撒尿在床上。 wet a bargain 喝着酒做交易。 wet sb.'s commission [stripes] 〔军俚〕喝酒庆祝升任军官。 wet one's whistle 〔美国〕喝酒。 vi. 湿；〔方言〕下雨。
• "wet to" 中文翻译 :    潜热负荷湿吨

• A different approach , named " two step growth approach " has been applied to fabricate an 8x8 photodiode array in the first time . the micro - processing procedures of this photodiode array including standard photolithography , a number of metallisation , wet - chemical etching and sic2 deposition for insulation were developed in this study
  首次采用“两步法”制备出了新颖的8 8zns肖特基光电二极管阵列，详细研究并确定了制备该器件的标准光刻、金属沉积、湿化学腐蚀、 sio _ 2绝缘层沉积等一系列微电子处理工艺。
• For example , when the gaas substrate is etched by h2so4 - h2o2 , h2o2 is adopted to oxidate the substrate first , then the substrate was etched by means of laser wet etching in h2so4 solvent . theoretical analysis and experimental results show that compared with the mixed - solvent - etching , more smooth etched surface can be obtained by this method ; and because the substrate is preprocessed , time of laser induced wet - chemical etching
  理论分析和实验结果都表明,次序选择腐蚀法可以有效地提高腐蚀表面的均匀性;因先对基片进行化学腐蚀处理,大大缩短了激光化学腐蚀的时间;使溶剂先后分别作用于基片,可以提高激光化学腐蚀溶剂配比的精度容差,使激光化学腐蚀控制和分析更加简单。